В своем выступлении Ковалев обозначил основные задачи, стоящие перед ЗНТЦ:
- Освоение полного цикла фотолитографии без импортного оборудования
- Снижение себестоимости и технологических рисков при производстве микросхем в России
- Создание платформы для последующего масштабирования до 130/90 нм
По словам генерального директора ЗНТЦ, на сегодняшний день уже заключено два контракта на поставку нового степпера. В настоящее время ведется отработка базовых технологических процессов с заказчиками.
Доклад завершился оживленной дискуссией, в ходе которой участники обменялись мнениями по поводу перспектив и вызовов, связанных с переходом к этапу углубленной локализации материалов и комплектующих, а также полной сборки оборудования.
Заседание Научного совета ОНИТ РАН стало важной площадкой для обсуждения стратегических вопросов развития отечественной микроэлектроники и определения приоритетных направлений в области литографических технологий.
